Photovoltaik

Thema

© Fraunhofer IKTS
Siebdruck Silber-Metallisierung, galvanisch verstärkte Silberleiterbahn
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EBSD-Analyse: Epitaktische Silber Abscheidung auf einer Dickschicht
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Effizienzsteigerung durch elektrolytische Verstärkung von Silber-Aerosol-Seedlayern

Die Produktion hocheffizienter Solarzellen erfordert eine Frontseiten-Metallisierung mit minimalen Kontaktwiderständen zum Halbleiter und hochleitfähigen Leiterbahnen. Verschiedene Technologien werden im Zusammenhang mit elektrolytischen Verfahren untersucht.

Die galvanische Verstärkung von Siebdruckschichten findet bereits industrielle Anwendung. Hier gilt es, die optimale Kombination aus einer Dickschichtmetallisierung und einem passenden elektrolytischen Bad zu finden, um eine maximale Effizienz zu erzielen und stabile Schichten herzustellen. Im Vordergrund stehen dabei die Anpassung und die geeignete Kombination von Dickschicht-metallisierung und dem galvanischen Bad.

Die Kombination unterschiedlicher Metallisierungen bietet sich dann an, wenn jede Technologie ihre besonderen Vorteile einbringt. Als Beispiel seien Seedlayer aus dem Aerosoldruck genannt, die galvanisch verstärkt wurden, wodurch ein einheitliches Niveau der Effizienz der Zellen sicher gestellt wird. Alternativ hierzu wird die Direkt-Metallisierung von Photovoltaik-Wafern mit Metall-Multilayerabscheidungen aus Nickel-Silber und Nickel-Kupfer-Zinn entwickelt.

 

Leistungsangebot

 

  • Untersuchungen zur Wechselwirkung von Dickschicht und Elektrolyt
  • Anpassung von Verfahren und Bad an Dickschichtsubstrate
  • Elektrolytische Verstärkung (Silber, Nickel, Kupfer, Zinn) on Seedlayern