


Výroba vysoce efektivních fotovoltaických článků vyžaduje pokovení přední strany s minimálním odporem na kontaktech k polovodiči a vodičům s vysokou elektrickou vodivostí. V souvislosti s elektrolytickými procesy probíhá na Fraunhofer IKTS výzkum různých technologií.
Galvanické pokovování vrstev vyrobených sítotiskem se v průmyslu již běžně používá. Pro dosažení maximální efektivity a stability vrstev je zásadní optimální kombinace pokovení tlusté vrstvy a vhodné elektrolytické lázně tak, aby bylo docíleno maximální efektivity a stability vrstev. Výzkum se proto soustřeďuje na optimalizaci a výběr vhodné kombinace pokovení a galvanické lázně.
Kombinace různých druhů pokovení se nabízí tehdy, kdy lze uplatnit jedinečné výhody každé z kombinovaných technologií. Například u tzv. Seed layer (aerosolový tisk) jsou vrstvy galvanicky pokoveny, čímž je zajištěna jednotná úroveň efektivity článků. Alternativou k této metodě je přímé pokovování fotovoltaických waferů vícečetnou depozicí kombinací kovů niklu a stříbra a také niklu, mědi a cínu.
Nabídka služeb
- Výzkum interakce mezi tlustou vrstvou a elektrolytem
- Optimalizace metod a lázní v závislosti na substrátu tlusté vrstvy
- Elektrolytické pokovování seed layer (stříbro, nikl, měď, cín)