CVD-Hartstoffschichten

Thema

LPCVD-Laboranlage des IKTS.

Die Bearbeitung neuartiger Materialien, wie hochfester Guss- und Faserverbundwerkstoffe, stellt immer höhere Anforderungen an Schneid- und Umformwerkzeuge. Weitere Einflüsse ergeben sich aus dem zunehmenden Anteil der Trocken- und der Hochgeschwindigkeitsbearbeitung. Diese veränderten Einsatzbedingungen erfordern sowohl eine Weiterentwicklung der Werkzeugwerkstoffe als auch der verwendeten Verschleißschutzschichten. Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine wichtige Basistechnologie zur Erzeugung dünner Hartstoffschichten. Das IKTS beschäftigt sich sowohl mit der Modifizierung bewährter Schichtsysteme als auch mit der Entwicklung neuer Beschichtungen.

 

Leistungsangebot

 

  • Herstellung bewährter und neu entwickelter CVD-Schichtsysteme bestehend aus:
    TiN, TiCN, TiC, Al2O3, AlN, TiAlN und SiC
  • Entwicklung neuer Beschichtungen
  • Musterbeschichtungen für Tests unter industriellen Bedingungen
  • Borierung und Nitrierung von Hartmetallen und Stählen
  • Komplexe Schichtcharakterisierung
  • Thermodynamische Modellierung der CVD-Prozesse

 

Technische Ausstattung

 

  • LPCVD-Laboranlage

 

Beispiele/Referenzen

 

  • Entwicklung einer neuartigen aluminiumreichen CVD-Ti1-xAlxN-Schicht mit x > 0,8
  • Borierung von Hartmetallwerkzeugen für die Holzberbeitung
  • Beschichtung von porösen Materialien